磁控溅射靶枪定制

我公司自主设计的磁控溅射靶枪可配备到现有各种磁控溅射系统中,用于薄膜材料的制备,同时也可用于大专院校本科生或研究生的物理教学中。


磁控溅射靶枪
磁控溅射靶枪


1.规格参数


固定法兰 CF100
真空内长度 283 mm(可定制)
真空内直径 88 mm
水冷要求 0.5 升/分钟
靶材种类 金属、合金、半导体、绝缘体
靶材直径 2" (50 mm)
靶材厚度 0.5-6 mm(磁性材料≤3mm)
磁铁 Sm2Co7
电源 DC或RF
挡板控制 手动或电机控制
烘烤温度 250°C


2.特点


  • 可以集成到多种国产或进口磁控溅射设备上,靶枪的真空内长度可以定制;
  • 安装法兰上带有独立的溅射气体接口;
  • 采用独特的气体导流罩将溅射气体引入到靶面,可以在靶材附近实现更高的气压,同时也能降低腔室的气压;




常州雷欧仪器有限公司

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