脉冲激光沉积系统-PLD定制

PLD系统的核心技术一直被国外垄断,以往的国产系统在性能上与进口设备存在较大差距。雷欧仪器研发团队通过与国内顶尖科研机构协作,共同开发出了性能优异的PLD系统。


脉冲激光沉积系统(PLD)
图1.单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)
图2. 双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)

设计特点如下:


  • 设计灵活新颖,可根据用户需求定制系统
  • 自主设计的激光加热系统,最高加热温度1400°C
  • 靶台具有摆动功能,可增加靶材利用率
  • 可配备高压RHEED,用于监测薄膜的生长过程
  • 升级空间大,集成灵活度高,可加配离子源、溅射源等
  • 可与其他真空设备对接



常州雷欧仪器有限公司

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